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半導體奈米技術 (3版)

半導體奈米技術 (3版)

作者 : 龍文安

出版社 : 五南圖書出版股份有限公司

※ ※ 已絕版

已絕版

定價 : NT 1,200

售價9折, NT1,080

內容簡介


半導體製程已進入奈米線幅,而廣義微影技術為半導體製程之核心,惜國內尚無中文微影技術專書,因此決定教研之餘撰寫本書,以彌補此缺憾與空白,並為推動科技中文化,略盡個人棉薄。

本書重點在微影技術原理與概念之說明,而不在生產線上實務細節之描述。內容包括微影技術全部重要內涵,例如微影製程、微影光學、主要微影方法、其他微影方法、圖罩與圖規、阻劑、解像度增進技術、銅互連線、化學機械研磨、電漿蝕刻與光學微影模擬。基於多年在交通大學應用化學研究所之教學經驗,本書亦包含瞭解微影技術必要之矽製程背景知識與基礎光學。末來數年,半導體量產線幅當推進至45-32-22奈米技術節點,光學微影製程之難度日益增加,對製程工程師之挑戰亦日益升高。本書對相關領域讀者應有所助益與參閱價值。
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作者介紹
■作者簡介

龍文安

現職:國立交通大學應用化學系暨研究所教授
學歷:美國杜蘭大學化學博士
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