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半導體乾蝕刻技術

半導體乾蝕刻技術

作者 : 野尻一男

出版社 : 白象文化事業有限公司

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定價 : NT 250

售價9折, NT225

內容簡介


日本生產工程權威獎項得主力作,圖解與表格詳實,帶領工程師掌握半導體乾蝕刻技術的全貌,提升現場即戰力。
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作者介紹

■作者簡介

野尻一男(Nojiri Kazuo)
1973年 群馬大學工學部電子工學科畢業。
1975年 群馬大學大學院工學研究科碩士課程修畢。
1975年 進入日立製作所。在半導體事業部從事CVD、元件整合、乾蝕刻的研究開發。尤其是關於ECR電漿蝕刻、充電損傷,進行先驅的研究。而且擔任技術開發的領導,歷任許多經理職務。
2000年 進入Lam Research公司擔任董事‧CTO至今。

主要受獎
1989年 以「有磁場微波電漿蝕刻技術的開發與實用化」受獎大河內紀念賞。
1994年 以「低溫乾蝕刻設備的開發」受獎機械振興協會賞通產大臣賞。

主要著作
《先端電気化学》(丸善)共著
《半導体プロセスにおけるチャージング・ダメージ》(リアライズ社)共著

■譯者簡介

倪志榮(Ni, Chih-Jung)
1988年 國立清華大學畢業
1991年 中日交流協會留日獎學生
1993年 日本東京大學工學院碩士
2014年 中部科學園區模範勞工
曾任地球村美日語中心日語講師

現職華邦電子公司模組技術發展部經理,從事DRAM與Flash的製程研發。

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